产品描述

EHDJet系列电流体动力印刷设备，源自华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室的高分辨率电流体喷印原创技术，荣获国际日内瓦发明展金奖、湖北省技术发明一等奖、湖北省自然科学一等奖等，多功能电流体动力喷墨打印系统，利用电流体动力学（EHD）原理，结合高精度运动平台，实现微米/纳米级的点喷印、线结构直写，从而制备预设的图案和结构；配置高速视觉系统、高精度多自由度运动平台、精密供墨系统等功能模块，适用1-10000cPs粘度的有机/无机墨水，集成按需点喷、纺丝直写、雾化制膜三种打印模式，支持矢量图、位图等图形输入，高精度制备微纳级点/点阵、线/曲线、薄膜结构等复杂微纳图案。工艺分辨率：点喷直径<1μm、纺丝线宽<1μm、雾化薄膜厚度~50nm，提供高性价比电喷印平台，助力柔性电子器件、柔性触摸屏、柔性体征贴片、太阳能薄膜电池、柔性传感器，生物支架、组织工程、有机发光二极管、生物传感器等领域科学研究与应用。

产品特性

▶采用大理石基座，提升运动稳定性

▶高精度直线电机提升运动精准性

▶不锈钢打印基台配备真空吸附/加热

▶提升打印精度、工艺稳定性和可靠性

集成按需点喷、纺丝和雾化制膜三种打印模式

产品优势

· 基本图案打印（电流体喷印各种二维结构）

· 制备微纳单元（制造微米~亚微米级RGB/量子点图案）

· 柔性封装薄膜（制备柔性OLED封装薄膜）

· 光敏树脂材料（制备微米级光透镜）

· 直写波纹结构（直接制备PVDF二级波纹纤维，器件拉伸能力提升至320%）

· 电流体光刻技术（可电流体打印光刻胶溶液，制备微纳米掩模图案，兼容光刻图案化工艺）

· 光刻胶图案（掩膜制备微米网络电极）

· 薄膜电容器件（电流体雾化石墨烯薄膜，制备薄膜电容器件）

产品参数

▶设备功能：点喷、近场直写、雾化

▶打印墨滴：可达fL级

▶定位精度：≤±5μm

▶重复精度：≤±3μm

▶打印频率：1000Hz

▶高压供电：0~±5000V

▶打印基台面积：200X200mm²

▶平台运动速度：X/Y轴最大打印速度200mm/s

▶视觉系统：精密定位视觉+精密观测视觉

▶图形格式：支持矢量图、位图；内置基本图元